離子去膠機 型號：PR-3 通過等離子體方法，對陶瓷片、硅片等襯底材料圖形上的光刻膠進行干法去除。設備為單室真空系統，主要由真空系統、氣路系統、電氣系統、射頻電源系統、控制系統、冷卻系統、報警系統等部分組成。

更新日期：2023-05-08 查看詳細介紹